LDW350
? ? ??LDW350直寫光刻機基于先進的DLP數字光刻技術，采用高精度的精密運動系統、光學系統、微環境控制系統，同時具備實時聚焦、自動居中對位等功能，可滿足130nm節點的制版需求。
MLC600
MLC600無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精巧型光刻產品，廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與生產，光刻最小線寬600nm，套刻對準精度500nm器件 直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用。
WLP2000
WLP2000直寫光刻機采用最先進的數字光刻技術，無需掩模板，可直接將版圖信息轉移到涂有光刻膠的襯底上，主要應用于8inch/12inch集成電路先進封裝領域，包括Flip Chip、Fan-In WLP、 Fan-Out WLP和2.5D/3D等先進封裝形式。該系統采用多光學引擎并行掃描技術，具備自動套刻、背部對準、智能糾偏、WEE/WEP功能，在RDL、Bumping和TSV等制程工藝中優勢明顯。
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