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LDW350

? ? ??LDW350直寫光刻機基于先進的DLP數字光刻技術，采用高精度的精密運動系統、光學系統、微環境控制系統，同時具備實時聚焦、自動居中對位等功能，可滿足130nm節點的制版需求。

MLF系列

? ? MLF系列光刻機結構緊湊，景深大、速度快，適用于功率器件、陶瓷封裝等領域，對干膜和光刻膠均有良好的工藝適應性，是一款經濟、靈活的量產設備。

MLC600

MLC600無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精巧型光刻產品，廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與生產，光刻最小線寬600nm，套刻對準精度500nm器件直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用。

股票代碼：688630

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